超純水とは
主に産業分野で用いられ、膜処理で得られる純水精製方法では取り除けない有機物や微粒子、気体などを様々な工程を経て処理されるのが特徴です。また、超純水の定義は以下の通りです。
| 比抵抗値 | 17.5MΩ・㎝ 以上 |
|---|---|
| シリカ濃度 | 100ppb 以下 |
| 微粒子 | 10個/ｍL 以下 |
| 生菌 | 10個/ｍL 以下 |
| TOC | 100ppb 以下 |
補足
＜超々純水の定義＞
| 比抵抗値 | 18.0MΩ・㎝ 以上 |
|---|---|
| シリカ濃度 | 1ppb 以下 |
| 微粒子 | 1個/100ｍL 以下 |
| 生菌 | 1個/100ｍL 以下 |
| TOC | 10ppt 以下 |
＜一次純水の定義＞
| 比抵抗値 | 1.0MΩ・㎝ 以上 |
|---|---|
| シリカ濃度 | 補償値なし |
| 微粒子 | 補償値なし |
| 生菌 | 補償値なし |
| TOC | 補償値なし |
１ｍ3/ｈ 超純水装置
17.5MΩ・cm以上の水質保障。
ユースポイント：0.2Mpa以上。
RO装置からイオン交換樹脂塔を1つの架台に組み込まれた装置。
スマホ等のガラス製品の洗浄に使用。
２ｍ3/ｈ 超純水装置
17.5MΩ・cm以上の水質保障。
ユースポイント：0.2ＭＰａ以上。
17.5MΩ・cm以上の水質保障。
前段にRO装置があります。
設置現場
クリーンスーツのクリーニング業者の最終洗浄水として導入
2.4ｍ3/ｈ RO水製造装置
10μS/cm以下のRO水製造装置
設置現場
水のボトリング工場用RO水製造装置
４ｍ3/ｈ 超純水装置
17.5MΩ・cm以上の水質保障
ユースポイント：0.2ＭＰａ以上
前段にRO装置があります。
設置現場
半導体ウエハーの洗浄試験時に洗浄水として使用。
ウエハー及びスマホ等のガラス研磨時の研磨水及び洗浄水として使用しています。
